| 硅粉常压直接氮化制备氮化硅粉的研究 |
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| 引用本文： | 尹少武,王立,刘传平,童莉葛,孙淑凤.硅粉常压直接氮化制备氮化硅粉的研究[J].硅酸盐通报,2008,27(2):230-235. |
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| 作者姓名： | 尹少武 王立 刘传平 童莉葛 孙淑凤 |
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| 作者单位： | 北京科技大学机械工程学院热能工程系,北京,100083 |
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| 摘 要： | 以平均粒径为2.8μm的硅粉为原料,添加氮化硅粉作为稀释剂,对常压氮气下直接氮化制备Si3N4粉的工艺进行了研究,借助于氮氧测定仪、XRD、SEM等检测方法,分析了硅粉常压直接氮化制备Si3N4粉过程中稀释剂种类、稀释剂添加比例、氮化温度、氮化时间等因素对硅的氮化过程的影响.研究结果表明:硅粉在流动常压氮气下,当氮化温度高于1410℃时,硅的转化率迅速增加,氮化产物中β相含量也增加;通过控制稀释剂的添加种类和添加比例、氮化时间和氮化温度,可合成高α相含量的Si3N4.采用平均粒径为2.8μm的硅粉,在常压氮气下,当添加30%的α-Si3N4粉作为稀释剂、氮化温度为1550℃、氮化时间为10min时,合成了氮含量为39.4%,游离硅为0.7%,主要为α相、含部分β相的Si3N4粉.
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| 关 键 词： | 氮化硅 直接氮化 常压氮化 制备 |
| 文章编号： | 1001-1625(2008)02-0230-06 |
The Study on the Preparation of Silicon Nitride Powders by Direct Nitridation at Normal Pressure |
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| YIN Shao-wu,WANG Li,LIU Chuan-ping,TONG Li-ge,Sun Shu-feng.The Study on the Preparation of Silicon Nitride Powders by Direct Nitridation at Normal Pressure[J].Bulletin of the Chinese Ceramic Society,2008,27(2):230-235. |
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| Authors: | YIN Shao-wu WANG Li LIU Chuan-ping TONG Li-ge Sun Shu-feng |
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