| 氢气流量对大面积金刚石膜沉积的影响 |
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| 引用本文： | 孙祁,汪建华,刘繁,翁俊. 氢气流量对大面积金刚石膜沉积的影响[J]. 中国表面工程, 2018, 31(2): 75-84 |
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| 作者姓名： | 孙祁 汪建华 刘繁 翁俊 |
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| 作者单位： | 武汉工程大学材料科学与工程学院;中国船舶重工集团公司第七一九研究所 |
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| 基金项目： | 湖北省教育厅基金（W20151517） |
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| 摘 要： | 为了实现大面积金刚石膜的高速均匀沉积,在新型多模微波等离子体装置中,利用微波等离子体(Microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD)技术,对大面积金刚石膜沉积过程中气体流场、电子密度和温度、基团分布及金刚石膜质量进行研究。流场模拟结果表明,多模MPCVD装置在高气体流量下依旧保持良好的流场稳定性。等离子体光谱结果表明,随着氢气流量的上升活性基团的强度上升。氢气流量在400 cm~3/min以内时,活性基团可在基底表面对称均匀分布。电子密度和电子温度随着氢气流量的上升先上升后下降,在500 cm3/min达到最大,分别为2.3×1019/m~3和1.65 eV。在氢气流量为300 cm~3/min时可在直径为100 mm的钼基底上实现大面积金刚石膜的均匀沉积,金刚石膜中心和边缘处拉曼光谱FWHM值为4.39 cm~(-1)和4.51 cm~(-1),生长速率为5.8μm/h。
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| 关 键 词： | 微波等离子体化学气相沉积 等离子体光谱 金刚石膜 大面积 均匀沉积 |
| 收稿时间： | 2017-10-18 |
| 修稿时间： | 2018-02-02 |
Effects of Hydrogen Flow Rate on Deposition of Large Area Diamond Films |
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| SUN Qi,WANG Jian-hu,LIU Fan and WENG Jun. Effects of Hydrogen Flow Rate on Deposition of Large Area Diamond Films[J]. China Surface Engineering, 2018, 31(2): 75-84 |
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| Authors: | SUN Qi WANG Jian-hu LIU Fan WENG Jun |
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| Affiliation: | School of Materials Science and Engineering, Wuhan Institute of Technology, Wuhan 430070;No. 719 Research Institute, China Shipbuilding Industry Corporation, Wuhan 430064,School of Materials Science and Engineering, Wuhan Institute of Technology, Wuhan 430070,School of Materials Science and Engineering, Wuhan Institute of Technology, Wuhan 430070 and School of Materials Science and Engineering, Wuhan Institute of Technology, Wuhan 430070 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD) optical emission spectroscopy (OES) diamond film large area uniform deposition |
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