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双弯管磁过滤阴极真空弧技术沉积超厚多层钛掺杂类金刚石膜
引用本文:姜其立,王浩琦,周晗,庞盼,刘建武,廖斌. 双弯管磁过滤阴极真空弧技术沉积超厚多层钛掺杂类金刚石膜[J]. 中国表面工程, 2018, 31(3): 53-60
作者姓名:姜其立  王浩琦  周晗  庞盼  刘建武  廖斌
作者单位:北京师范大学核科学与技术学院;北京市辐射中心
基金项目:北京市共同建设专项基金(110651102)
摘    要:极端工况对关键部件涂层的性能要求较高,作为常用涂层,薄类金刚石(Diamond-like carbon,DLC)膜因其厚度的局限性已不能满足日益增长的性能需求,因此超厚DLC膜的制备工艺具有较大的现实意义。采用双弯管磁过滤阴极真空弧沉积技术制备多层Ti掺杂DLC膜,并通过显微维氏硬度计、摩擦磨损试验仪、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能谱仪(EDS)、透射电子显微镜(TEM)、X光电子能谱仪(XPS)、X射线衍射仪(XRD)、拉曼光谱仪(Raman)等对膜的结构和性能进行表征。结果表明:薄膜的沉积速率最高可达0.40μm/min;随着沉积过程中C2H2流量的增加,Ti掺杂DLC膜中超硬Ti C相的相对含量降低,因此导致膜硬度降低,同时热稳定性变差;通过金属掺杂以及多层复合结构的方法能够有效制备低内应力的DLC膜,同时实现超厚DLC膜(最高可达42.3μm)的制备。

关 键 词:超厚DLC膜  Ti掺杂  双弯管  磁过滤阴极真空弧沉积  C2H2
收稿时间:2017-12-01
修稿时间:2018-05-04

Ultra-thick Multilayer Ti-doped DLC Films Deposited By Double Bend-tube Magnetic Filter Cathode Vacuum Arc Technology
JIANG Qi-li,WANG Hao-qi,ZHOU Han,PANG Pan,LIU Jian-wu and LIAO Bin. Ultra-thick Multilayer Ti-doped DLC Films Deposited By Double Bend-tube Magnetic Filter Cathode Vacuum Arc Technology[J]. China Surface Engineering, 2018, 31(3): 53-60
Authors:JIANG Qi-li  WANG Hao-qi  ZHOU Han  PANG Pan  LIU Jian-wu  LIAO Bin
Affiliation:College of Nuclear Science and Technology, Beijing Normal University, Beijing 100875;Beijing Radiation Center, Beijing 100875,College of Nuclear Science and Technology, Beijing Normal University, Beijing 100875;Beijing Radiation Center, Beijing 100875,College of Nuclear Science and Technology, Beijing Normal University, Beijing 100875;Beijing Radiation Center, Beijing 100875,Beijing Radiation Center, Beijing 100875,College of Nuclear Science and Technology, Beijing Normal University, Beijing 100875;Beijing Radiation Center, Beijing 100875 and College of Nuclear Science and Technology, Beijing Normal University, Beijing 100875;Beijing Radiation Center, Beijing 100875
Abstract:
Keywords:ultra-thick DLC films  Ti-doped  double bend-tube  magnetic filtered cathodic vacuum arc deposition  C2H2
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