| 石英衬底上的BPxN1-x薄膜沉积及P对其光学带隙调制的研究 |
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| 引用本文： | 张溪文,徐世友,韩高荣.石英衬底上的BPxN1-x薄膜沉积及P对其光学带隙调制的研究[J].真空科学与技术学报,2004,24(Z1):24-27. |
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| 作者姓名： | 张溪文 徐世友 韩高荣 |
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| 作者单位： | 张溪文（硅材料国家重点实验室,浙江大学材料系,浙江大学,杭州,310027）
徐世友（硅材料国家重点实验室,浙江大学材料系,浙江大学,杭州,310027）
韩高荣（硅材料国家重点实验室,浙江大学材料系,浙江大学,杭州,310027） |
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| 摘 要： | 以光学石英为衬底,采用热丝辅助射频等离子体增强化学气相沉积方法(HF-PECVD)沉积了BPxN1-X薄膜.通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱(EDAX)、紫外-可见(UV-VIS)等测试手段研究了薄膜的化学组成、结晶状况,以及P元素掺杂对BPxN1-X薄膜材料光学带隙的调制规律.结果表明,所沉积薄膜具有多晶团聚、定向生长的特点,其表面形貌随时间而变化,最后发展成多晶球状密堆成膜,与石英衬底结合牢固.BPxN1-x薄膜的磷元素相对含量随磷烷流量增加而增加,光学带隙相应窄化.通过控制磷的掺杂量可以有效调整该薄膜材料的光学带隙.
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| 关 键 词： | BPXN1-X薄膜 磷掺杂 光学带隙 |
| 文章编号： | 1672-7126(2004)增-024-04 |
Phosphor Induced Optical Band Gap Modulation of BPxN1-x Films |
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