摘 要: | 本文用与文献相同的方法推导了磁聚焦场同磁的和静电的偏转场相复合情况下轴上点状物的三级几何象差系数和一级色差系数公式,推导中考虑了偏转场的三次谐波分量,并把聚焦场函数的高阶导数化为一阶,以减小数值运算的误差。使用这些公式和改进的复形调优法编制了电子光学优化程序。计算中所用的场分布均用有限单元法数值地求得,其结果均能同模拟实验或实测结果吻合。着重分析了常用的复合双偏转结构,结果表明,复合状态良好的双偏转在相同物象距和束电流下同透镜后单偏转相比,轴上象差和偏转象差均小一个数量级。还表明,复合静电偏转即使在大扫描场中也能达到磁偏转的象差水平。
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