镀液中金属离子浓度比对化学镀Ni-Co-P薄膜的形貌及磁性能的影响 |
| |
引用本文: | 袁静,袁瑞,冯涛,毛多鹭.镀液中金属离子浓度比对化学镀Ni-Co-P薄膜的形貌及磁性能的影响[J].电镀与精饰,2023(2):7-13. |
| |
作者姓名: | 袁静 袁瑞 冯涛 毛多鹭 |
| |
作者单位: | 1. 青海民族大学物理与电子信息工程学院;2. 青海大学化工学院 |
| |
基金项目: | 青海省自然科学基金(2019-ZJ-943Q);;中科院“西部青年学者”项目; |
| |
摘 要: | 采用化学镀法在硅基底上直接施镀了Ni-Co-P磁性薄膜,通过调整镀液中金属盐浓度比控制镀层中镍、钴含量,优化薄膜软磁性能。采用SEM、EDAX、XRD和VSM研究了镀液中不同的镍、钴浓度比对薄膜形貌、成分、厚度、镀速、结构和磁性能的影响。结果表明:化学镀Ni-Co-P薄膜由瘤状Ni-Co颗粒组成,镀态的Ni-Co-P镀层由非晶相构成。随着镀液中Co2+浓度的增加,镀层中Co元素的含量增多,Ni元素的含量降低,但镀层的镀速减缓,当镀液中Co2+含量过高时,施镀非常困难,而镀液中金属盐浓度比对镀层中非金属元素P的沉积量影响不大。Ni-Co-P合金薄膜的饱和磁化强度随着镀层中Co元素含量的增加有上升趋势,矫顽力同时呈现下降趋势。当镀液中c(Ni2+)∶c(Co2+)=2∶3时,制备的Ni-Co-P镀层软磁性能最好,其饱和磁化强度达到820 emu/cc,矫顽力仅为4 Oe。
|
关 键 词: | 化学镀Ni-Co-P涂层 形貌 晶体结构 软磁性能 |
|