分段电压模式制备镁合金微弧氧化膜工艺研究 |
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引用本文: | 赵昊宇,陈伟东,刘硕,李锦涛.分段电压模式制备镁合金微弧氧化膜工艺研究[J].特种铸造及有色合金,2023(4):514-518. |
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作者姓名: | 赵昊宇 陈伟东 刘硕 李锦涛 |
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作者单位: | 内蒙古工业大学材料科学与工程学院 |
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摘 要: | 为了研究分段式加载电压对镁合金微弧氧化膜性能的影响,采用Na2SiO3电解液体系对AZ91D镁合金进行微弧氧化。利用扫面电镜(SEM)对氧化膜的表面和截面形貌进行观察,用涡流测厚仪、激光共聚焦显微镜及Image J测试了膜层的厚度、粗糙度及孔隙率,并对氧化膜的耐磨性进行了分析。结果表明,当第1阶段加载电压为300 V(180 s)时,所获膜层的表面孔隙率最低,仅为4.574%,膜层厚度为90μm,粗糙度为2.72μm。SEM结果表明,分段式加载电压所获膜层的致密度提高,表面裂纹和孔洞减少。分段加载电压方式为300 V(180 s)+380 V(1 620 s)时的磨损量最少,经过200 r的磨损后,质量损失仅为17.2 mg,较一次性加载方式减少了4.6 mg。
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关 键 词: | 微弧氧化 氧化膜 分段电压 膜层特性 |
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