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双还原剂SHP和DMAB对ABS表面化学镀铜的影响
引用本文:宋晅,符冬琴,陈怀军,朱皓,程熠,赵文霞,刘欣,回凯宏,李鑫巍,赵伟.双还原剂SHP和DMAB对ABS表面化学镀铜的影响[J].电镀与精饰,2023(5):18-25.
作者姓名:宋晅  符冬琴  陈怀军  朱皓  程熠  赵文霞  刘欣  回凯宏  李鑫巍  赵伟
作者单位:1. 宁夏师范学院化学化工学院;2. 海南经贸职业技术学院国际贸易学院
基金项目:宁夏自然科学基金(2022AAC03298、2020AAC03266);
摘    要:为进一步改善以次磷酸盐作为还原剂的化学镀铜溶液的沉积速率,采用次磷酸钠(SHP)和二甲胺基甲硼烷(DMAB)构成双还原剂用于化学镀铜溶液中,研究了两种还原剂复合添加浓度对聚丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)表面化学镀铜的影响。利用网格设计法,探讨化学镀铜溶液中两种还原剂复合的适宜浓度配比,通过恒温加热测试,研究两种还原剂的复合添加浓度对化学镀铜溶液稳定性的影响,并采用场发射扫描电子显微镜和X射线能谱分析仪对化学镀铜层的微观形貌和组成进行表征。研究结果表明,在DMAB和SHP的添加浓度分别为0.50 g·L-1和90 g·L-1时,DMAB和SHP具有良好的协同作用,此时化学镀铜溶液的稳定性好,化学镀铜的沉积速率最大,为3.14μm·h-1。化学镀铜层表面铜晶粒排列致密,表面平整,且镀层中铜含量达到97.4%,ABS表面与化学镀铜层之间的粘结强度最高,达到0.95 kN·m-1

关 键 词:化学镀铜  次磷酸钠  二甲胺基甲硼烷  沉积速率  粘结强度
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