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炭黑化学镀铜及性能研究
引用本文:陈建,赵金平,赵源华.炭黑化学镀铜及性能研究[J].炭素,2008(1):8-13.
作者姓名:陈建  赵金平  赵源华
作者单位:四川理工学院材料与化学工程系,四川自贡,643000
摘    要:以甲醛为还原剂,硫酸铜为主盐,采用还原法,在不同种炭黑表面化学镀铜。检测不同种镀铜炭黑的物理性能,包括电阻率、摩擦系数等;利用金相显微镜对各种镀铜炭黑进行金相分析,利用晶粒度评级软件分析镀铜炭黑的平均粒径。结果表明:控制合适的工艺条件,镀铜层能够比较完整地包覆在炭黑粒子及炭黑聚集体的表面,炭黑镀铜率可以高达70%;炭黑粒径越小,单位质量炭黑的比表面积越大,表面活化中心也越多,铜在炭黑表面的包覆效果越好;石墨化后炭黑的镀铜效果较石墨化前有所提高。

关 键 词:炭黑  化学镀铜  物理性能  金相显微镜
文章编号:1001-8948(2008)01-0008-06
修稿时间:2007年10月31

STUDY ON ELECTROLESS COPPER PLATING PROCESS OF THE CARBON BLACK AND THE PERFORMANCE OF THE PRODUCT
Chen Jian,Zhao Jin-ping,Zhao Yuan-hua.STUDY ON ELECTROLESS COPPER PLATING PROCESS OF THE CARBON BLACK AND THE PERFORMANCE OF THE PRODUCT[J].Carbon,2008(1):8-13.
Authors:Chen Jian  Zhao Jin-ping  Zhao Yuan-hua
Affiliation:(Sichuan University of Science and Engineering,Zigong 643000,China)
Abstract:
Keywords:carbon black  electroless copper-plating  physical property  metallographical
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