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| 磁控溅射ZnO薄膜 | |
| 作者姓名： | 肖韵雪 郭伟远 奚仲英 郭秀芬 |
| 作者单位： | 一四二六研究所六室(肖韵雪，郭伟远，奚仲英)，一四二六研究所六室(郭秀芬) |
| 摘 要： | ZnO簿膜是一种优良的压电料材,广泛用于各种频段的声体波、声表面波和声光等器件中.本文概述了ZnO簿膜的应用前景、成膜技术.并简要介绍了磁控溅射的基本原理及特点.文章还介绍了用自行设计改装的R.F.平面磁控溅射装置制作C-轴取向ZnO簿膜的初步情况.采用这种装置得到了比常规R.F.二极溅射淀积速率高5倍的ZnO簿膜,C- 轴取向良好.溅射速率达2—4微米/小时,分散度б≤2°—4°,偏离度m≤1°—2°,P_v≥10~7欧姆-厘米. |
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