首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

光学表面微缺陷的高对比度暗场成像检测方法
作者姓名:张璇  宋德林  张涛  刘乾  耿鹏武
作者单位:四川大学 制造科学与工程学院,四川 成都,610065;成都国科海博信息技术股份有限公司,四川 成都,610213;中国工程物理研究院机械制造技术研究所,四川 绵阳,621000;空军驻雅安地区军事代表室,四川 雅安,625000
摘    要:提出了一种新型的暗场显微成像方法(环状孔径显微术,Circular-Aperture Microscopy,CAM)用于光学加工表面的缺陷检测。该方法的关键在于,在CAM物镜中心放置一个遮挡片用于消除照明直射光的影响,而缺陷的散射光能够通过物镜的环状透射区域形成高对比度的图像。对划痕和麻点标准比对板、分辨率测试板、微粒悬浊液等样品的成像结果表明,CAM具有原理简单、对比度高、分辨率高、精度高的优势,能够为光学表面加工中的缺陷检测提供一种有效的方法。

关 键 词:光学元件加工  缺陷检测  暗场显微成像
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号