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InP基连续面型方形微透镜设计与制作技术研究
引用本文:柳聪,张为国,刘锋,崔大健,张承,黄晓峰,高明友,刘奎宇,朱长林,陈益民. InP基连续面型方形微透镜设计与制作技术研究[J]. 半导体光电, 2023, 44(6): 883-888
作者姓名:柳聪  张为国  刘锋  崔大健  张承  黄晓峰  高明友  刘奎宇  朱长林  陈益民
作者单位:重庆光电技术研究所, 重庆 400060
摘    要:建立了非球面连续面型方形口径微透镜性能仿真模型,利用ZEMAX软件对10°视场、50μm周期、填充因子接近100%的磷化铟微透镜面型参数进行了优化设计。开发了衍射调制动态曝光与感应耦合等离子体刻蚀系统误差补偿方法制作出的磷化铟微透镜,其表面粗糙度小于2 nm,面型数据与设计值相比误差小于1/4工作波长,达到完善成像水平。

关 键 词:方形微透镜  衍射调制动态曝光  填充因子  粗糙度  面型误差
收稿时间:2023-09-05

Research on the Design and Manufacturing Technology of InP-Based Continuous Square Microlens
LIU Cong,ZHANG Weiguo,LIU Feng,CUI Dajian,ZHANG Cheng,HUANG Xiaofeng,GAO Mingyou,LIU Kuiyu,ZHU Changlin,CHEN Yimin. Research on the Design and Manufacturing Technology of InP-Based Continuous Square Microlens[J]. Semiconductor Optoelectronics, 2023, 44(6): 883-888
Authors:LIU Cong  ZHANG Weiguo  LIU Feng  CUI Dajian  ZHANG Cheng  HUANG Xiaofeng  GAO Mingyou  LIU Kuiyu  ZHU Changlin  CHEN Yimin
Affiliation:Chongqing Optoelectronics Research Institute, Chongqing 400060, CHN
Abstract:
Keywords:square microlens   diffraction-modulated dynamic exposure   filling factor   roughness   surface error
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