首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

光电印制电路板的发展评述(3)——聚合物光波导层的成型工艺(1)
引用本文:张家亮.光电印制电路板的发展评述(3)——聚合物光波导层的成型工艺(1)[J].印制电路信息,2007(2):17-20.
作者姓名:张家亮
作者单位:南美覆铜板厂有限公司,广东,佛山,528231
基金项目:江苏省科技厅省科技发展计划(社会发展)项目
摘    要:文章简述了光电印制电路板中聚合物光波导层的制作应该遵循的原则,介绍了光波导层的主要成型工艺,包括反应离子蚀刻、平版影印、激光烧蚀和加热模压等方法。

关 键 词:光电印制电路板  反应离子蚀刻  平版影印  激光烧蚀  加热模压  成型工艺
文章编号:1009-0096(2007)02-0017-04

Review of Progress in Optical-electronic Circuit Boards(3)——Patterning Techniques of Polymer Optical Waveguide Layers (Part1)
Zhang Jialiang.Review of Progress in Optical-electronic Circuit Boards(3)——Patterning Techniques of Polymer Optical Waveguide Layers (Part1)[J].Printed Circuit Information,2007(2):17-20.
Authors:Zhang Jialiang
Affiliation:Zhang Jialiang
Abstract:In the paper, the rule of polymer optical waveguide layers used in OE-PCB was reviewed briefly. At the same, patterning techniques of polymer optical waveguide layers were introduced. The main method includes reactive ion etching(RIE), photolithography, laser ablation, hot embossing.
Keywords:OE-PCB  reactive ion etching(RIE)  photolithography  laser ablation  hot embossing  pattern- ing techniques
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号