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解决0.18μm光刻批量生产的五大技术要素
引用本文:翁寿松.解决0.18μm光刻批量生产的五大技术要素[J].半导体情报,1999,36(5):16-21.
作者姓名:翁寿松
摘    要:介绍了解决0.18μm光刻批量生产的五在技术要素,即曝光装置,倾斜(离轴)照明技术,相移掩模技术、光学邻近效应修正技术和光刻胶及工艺。

关 键 词:光刻  批量生产  集成电路  DRAM
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