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磁控溅射MgxZn1-xO薄膜的结构与光学性能研究
引用本文:郭瑞,李东临,王怡,武光明,邢光建.磁控溅射MgxZn1-xO薄膜的结构与光学性能研究[J].材料导报,2010,24(16).
作者姓名:郭瑞  李东临  王怡  武光明  邢光建
作者单位:北京化工大学材料科学与工程学院,北京,100029;北京石油化工学院,北京,102617;北京石油化工学院,北京,102617
基金项目:北京市教育委员会科技计划面上项目 
摘    要:利用射频磁控溅射技术在玻璃衬底上沉积了MgxZn1-xO(x=0~0.2)薄膜.采用X射线衍射仪、紫外-可见光分光光度计和荧光光谱仪研究了Mg掺杂量对MgxZn1-xO薄膜结构与光学性能的影响.XRD图谱表明,MgxZn1-xO薄膜均为六角纤锌矿结构,并且呈现出C轴择优生长特性,当x>0.1时薄膜出现(100)面衍射峰,薄膜的c轴择优生长特性减弱,随着x值的增加,晶格常数c逐渐减小.紫外可见光透射光谱表明,Mg的掺入提高了薄膜在可见光范围内的透过率,同时使薄膜的禁带宽度增大.PL谱分析显示,Mg的掺入使薄膜的紫外发射峰和蓝光发射带发生蓝移,当x=0.1时近带边发射峰与杂质发射的强度比值最高.

关 键 词:MgxZn1-xO薄膜  射频磁控溅射  透过率  光致发光谱

Study on Structure and Optical Properties of MgxZn1-xO Thin Films by RF-magnetron Sputtering
GUO Rui,LI Donglian,WANG Yi,WU Guangming,XING Guangjian.Study on Structure and Optical Properties of MgxZn1-xO Thin Films by RF-magnetron Sputtering[J].Materials Review,2010,24(16).
Authors:GUO Rui  LI Donglian  WANG Yi  WU Guangming  XING Guangjian
Abstract:
Keywords:
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