直流磁控溅射沉积N-Ti-TiN镀膜耐蚀性能 |
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引用本文: | 张德秋,李慕勤,王晶彦,吴明忠,侯义飞. 直流磁控溅射沉积N-Ti-TiN镀膜耐蚀性能[J]. 广东化工, 2016, 0(21). DOI: 10.3969/j.issn.1007-1865.2016.21.005 |
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作者姓名: | 张德秋 李慕勤 王晶彦 吴明忠 侯义飞 |
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作者单位: | 佳木斯大学黑龙江省高校生物医学材料重点实验室,黑龙江佳木斯,154007 |
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基金项目: | 国家自然科学基金项目(31370979),黑龙江省高校生物医学材料重点实验室2012年度开放课题(YX12002),佳木斯大学科学技术面上项目(L2013-073),佳木斯大学大学生科技创新项目(XSlz2016-06) |
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摘 要: | 通过固定N层和Ti N层的沉积时间,改变Ti层沉积时间,在AZ31镁合金表面采用直流磁控溅射技术制备N-Ti-Ti N镀膜,研究镀钛时间对N-Ti-Ti N镀膜的形貌、腐蚀性能的影响。利用扫描电镜(SEM)、能谱仪等手段分析镀膜的表面形貌和成分,通过动电位极化试验,研究镀膜的耐蚀性。结果表明:改变不同镀钛时间获得的N-Ti-Ti N镀膜的厚度在1~1.4μm之间,镀膜分布均匀,随着镀钛膜沉积时间的增加镀膜的厚度增加,膜间结合性好;与镁合金基体相比,不同镀钛时间的N-Ti-Ti N镀膜均能提高材料的耐蚀性,镀钛时间为20 min的N-Ti-Ti N镀膜的耐蚀性更为优异。
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关 键 词: | 直流磁控溅射 N-Ti-TiN镀膜 腐蚀性能 |
Corrosion Resistance of N-Ti-TiN Film Deposited by Direct Current Magnetron Sputtering |
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Abstract: | |
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