单晶硅中位错对CBED的零阶Laue带花样影响的实验观察 |
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引用本文: | 文建国,王仁卉,路钢华.单晶硅中位错对CBED的零阶Laue带花样影响的实验观察[J].电子显微学报,1988(3). |
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作者姓名: | 文建国 王仁卉 路钢华 |
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作者单位: | 武汉大学物理系,武汉大学物理系,武汉大学物理系 中科院沈阳金属研究所 |
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摘 要: | 我们用大角度会聚束电子衍射(简称CBED)系统地研究了单晶硅中位错特征及入射束会聚点位置对CBED的零阶Laue带(简称ZOLZ)花样的影响,并用衍衬法对这些位错进行了鉴定。实验表明:刃位错使ZOLZ花样压缩或伸张(图1),螺位错使ZOLZ花样两部分错动(图3)。刃位错和螺位错对CBED的ZOLZ花样的影响示意图分别见图2(a)和(b)。实验和理论分析表明,设矢量C由位错指向入射束会聚点,位错线方向为u,则任意位错线的(?)×(?)朝向的一侧的CBED花样沿Burgers矢(?)方向移动,而另一侧朝-(?)方向移动(图4)。本工作给出了一个一次直接判定位错类型和Burgers矢正负的实验方法。
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