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模拟量光电隔离电路
作者姓名:徐基豫  苏荣培  杨永滨
作者单位:哈尔滨工业大学(徐基豫,苏荣培),哈尔滨工业大学(杨永滨)
摘    要:一、引言随着工业自动化水平的提高,自动化设备的复杂程度越来越高,因而对装置的可靠性、抗干扰能力的要求也越来越高。干扰的来源通常有共模干扰和串模干扰两种,光电隔离是克服共模干扰的主要措施。除了抗干扰作用以外,光电隔离还有保护设备不致受强干扰信号损坏的作用,特别是对于大规模集成的MOS电路,更容易受到强电信号的破坏。计算机控制的应用大大提高了自动化技术的水

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