真空灭弧室制造技术的发展 |
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引用本文: | 李建基.真空灭弧室制造技术的发展[J].大众用电,2007(5):23-23. |
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作者姓名: | 李建基 |
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作者单位: | 西安高压电器研究所 |
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摘 要: | 目前用于真空开关的触头材料大概有3种:半难熔金属+良导体,如铜铬(CuCr)合金;熔融金属+良导体,如铜钨合金;铜合金,如铜铋等。在中压真空开关中,铜铬被认为是最佳的触头材料,它结合了触头材料中最关键的电性能于一身,即优良的导电性,高的开断电流能力,良好的抗电弧熔蚀性和很好的抗表面熔焊能力以及截流值小等。
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关 键 词: | 真空灭弧室 制造技术 触头材料 铜钨合金 难熔金属 真空开关 熔融金属 开断电流 |
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