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多孔硅制备工艺的研究
引用本文:唐洁影,汪开源.多孔硅制备工艺的研究[J].半导体杂志,1995,20(1):11-14.
作者姓名:唐洁影  汪开源
摘    要:多孔硅的发光性能与其制备工艺密切相关,本文着重讨论了阳极氧化技术、表面再处理、硅衬底的电学性质等因素对多孔硅质量的影响,给出了合适的工艺条件。

关 键 词:多孔硅  阳极氧化  光致发光  工艺  制备
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