| 磁控溅射SiC薄膜表面形貌演化行为研究 |
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| 引用本文： | 陈晖,周细应,孙卿.磁控溅射SiC薄膜表面形貌演化行为研究[J].金刚石与磨料磨具工程,2011,31(4):32-36. |
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| 作者姓名： | 陈晖 周细应 孙卿 |
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| 作者单位： | 上海工程技术大学材料工程学院,上海,201620 |
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| 基金项目： | 上海市重点学科建设项目资助(J51402); 上海工程技术大学大学生创新活动计划项目(A-0800-10-070) |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法在石英玻璃基底上沉积SiC薄膜.用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜( AFM)观察薄膜的表面形貌,利用粗糙度和颗粒度大小对薄膜表面形貌动态演化进行量化表征.结果表明:在100～175 W溅射功率范围内,1 000℃高温真空退火处理能明显减小SiC薄膜表面粗糙度,膜层表面更为平滑,颗粒大小更为均匀...
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| 关 键 词： | SiC薄膜 表面演化 原子力显微镜 |
Study on surface dynamic evolution of SiC thin films deposited by magnetron sputtering |
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| Chen Hui,Zhou Xiying,Sun Qing.Study on surface dynamic evolution of SiC thin films deposited by magnetron sputtering[J].Diamond & Abrasives Engineering,2011,31(4):32-36. |
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| Authors: | Chen Hui Zhou Xiying Sun Qing |
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| Affiliation: | Chen Hui Zhou Xiying Sun Qing(College of Materials Engineering,Shanghai University of Engineering Science,Shanghai 201600,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | SiC thin films surface evolution atomic force microscope |
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