| 箍缩反射离子二极管产生的强流脉冲离子束特性 |
| |
| 引用本文： | 石磊,何小平,邱爱慈.箍缩反射离子二极管产生的强流脉冲离子束特性[J].原子能科学技术,2001,35(5):456-459. |
| |
| 作者姓名： | 石磊 何小平 邱爱慈 |
| |
| 作者单位： | 西北核技术研究所 |
| |
| 摘 要： | 通过对离子束流密度分布的测量和对被离子束轰击的铜箔不同半径处表面微观形貌的分析，研究了200kV箍缩反射离子二极管产生的离子束特性。结果表明：轴线上离子束流密度最大。
|
| 关 键 词： | 箍缩反应离子二极管 偏压离子收集器阵列 离子束斑 强流脉冲离子束 加速器 |
| 文章编号： | 1000-6931(2001)05-0456-04 |
| 修稿时间： | 2000年5月18日 |
Characteristics of the Intense Pulsed Ion Beams
Generated With a Pinch-reflex Ion Diode |
| |
| SHI Lei,HE Xiao ping,QIU Ai ci.Characteristics of the Intense Pulsed Ion Beams
Generated With a Pinch-reflex Ion Diode[J].Atomic Energy Science and Technology,2001,35(5):456-459. |
| |
| Authors: | SHI Lei HE Xiao ping QIU Ai ci |
| |
| Abstract: | The characteristics of the intense pulsed ion beams generated with a 200 kV pinch reflex ion diode are investigated through the measurement of the ion beam current density distribution and the microstructure analyses of Cu foil bombarded by the ion beam. The highest ion beam current density is observed around the diode axis. |
| |
| Keywords: | pinch-reflex ion diode biased ion collector array ion beam spot |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
