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| 同步辐射X射线反射技术及其在测量δ掺杂晶体中原子表层深度分 … | |
| 作者姓名： | 贾全杰 蒋最敏 |
| 作者单位： | [1]中国科学院高能物理研究所 [2]复旦大学应用表面物理国家重点实验室 |
| 摘 要： | Ｘ射线低角反射实验技术是测定固体材料表层中杂质原子深度分布的有效手段。利用同步辐射Ｘ射线反射技术和近年来发展的由反射实验数据逆向求解原子深度分布的分层逼近法，研究了不同温度下分子束外延生长的δ掺杂（Ｓｂ）Ｓｉ晶体样品，成功地测量了样品中几个纳米范围内的Ｓｂ原子深度分布。所得结果表明，３００℃以下是用分子束外延方法在Ｓｉ晶体中生长Ｓｂ原子δ掺杂结构的合适温度。 |
| 关 键 词： | X射线反射 同步辐射 分层逼近法 δ掺杂 硅晶体 |
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