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分类号
杂志ISSN号
高纯度炭黑
作者姓名:
易之
摘 要:
本发明与高纯度炭黑有关。该炭黑适合用于在要求避免杂质(特别是金属杂质)的半导体领域制造例如IC(集成电路)、LSI(大规模集成电路)等半导体器件过程中光刻时形成防反射膜。
关 键 词:
炭黑 半导体 防反射膜 电加热器 纯度
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