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高纯度炭黑

作者姓名：	易之

摘要：	本发明与高纯度炭黑有关。该炭黑适合用于在要求避免杂质(特别是金属杂质)的半导体领域制造例如IC(集成电路)、LSI(大规模集成电路)等半导体器件过程中光刻时形成防反射膜。
关键词：	炭黑半导体防反射膜电加热器纯度
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