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超薄基区SiGe HBT电流传输模型
引用本文:李垚,孔德义,魏敬和,许居衍.超薄基区SiGe HBT电流传输模型[J].半导体学报,2000,21(1):97-101.
作者姓名:李垚  孔德义  魏敬和  许居衍
作者单位:东南大学无锡应用科学与工程研究院!无锡214071
摘    要:从玻尔兹曼方程出发,分析了SiGeHBT超薄基区中载流子温度,扩散系数等参量的变化,建立了不同于常规基区宽度的新的超薄基区SiGeHBT电流传输模型.

关 键 词:HBT    电流传输    SiGe
文章编号:0253-4177(2000)01-0097-05

Base Transport Model for Ultra-Thin-Base SiGe HBT
LI Yao,KONG De\|yi,WEI Jing\|he,XU Ju\|yan.Base Transport Model for Ultra-Thin-Base SiGe HBT[J].Chinese Journal of Semiconductors,2000,21(1):97-101.
Authors:LI Yao  KONG De\|yi  WEI Jing\|he  XU Ju\|yan
Abstract:According to the exact solution of Boltzmann equation,the characteristics of parameters such as carrier temperature and diffusion coefficient in ultra\|thin base of SiGe HBT are analyzed.And a new model of base transport in SiGe HBT different from traditional one is founded.
Keywords:HBT  Transport  SiGe
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