| TiN及AlN薄膜的制备和光学性能研究 |
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| 引用本文： | 王浩敏,林更琪,李震,熊锐,李佐宜.TiN及AlN薄膜的制备和光学性能研究[J].半导体光电,2002,23(4):267-270. |
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| 作者姓名： | 王浩敏 林更琪 李震 熊锐 李佐宜 |
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| 作者单位： | 武汉华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074 |
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| 基金项目： | 教育部重点实验室基金;; |
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| 摘 要： | 研究了反应溅射法制备AlN、TiN薄膜的工艺过程,摸索了用于磁光盘介质层的AlN、TiN薄膜的最佳制备工艺,并研究了采用此工艺制备的AlN、TiN薄膜的光学性能.
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| 关 键 词： | 反应溅射 AlN TiN 磁光盘 |
| 文章编号： | 1001-5868(2002)04-0267-04 |
| 修稿时间： | 2002年3月20日 |
Preparation of TiN and AIN Thin Films and Their Optical Characteristics |
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| WANG Hao-min,LIN Geng-qi,LI Zheng,XIONG Re,LI Zuo-yi.Preparation of TiN and AIN Thin Films and Their Optical Characteristics[J].Semiconductor Optoelectronics,2002,23(4):267-270. |
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| Authors: | WANG Hao-min LIN Geng-qi LI Zheng XIONG Re LI Zuo-yi |
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| Abstract: | A series of AlN and TiN thin films for MO disks are prepared by RF magnetron sputtering technique.Sputtering conditions of AlN and TiN films prepared by RF reactive sputtering is investigated.Furthermore, the optical characteristics of these films are discussed. |
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| Keywords: | reactive sputtering AlN TiN MO disk |
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