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AlxGa0.51-xIn0.49P光学性质的研究
引用本文:连洁,张淑芝,卢菲,魏爱俭,黄伯标,崔德良,秦晓燕,王海涛. AlxGa0.51-xIn0.49P光学性质的研究[J]. 半导体光电, 2000, 21(2): 111-114
作者姓名:连洁  张淑芝  卢菲  魏爱俭  黄伯标  崔德良  秦晓燕  王海涛
基金项目:国家高技术研究发展计划(863计划)
摘    要:用MOCVD方法在GaAs衬底上生长了AlGaInP的本征及掺Si或掺Mg三个样品.用椭偏光谱法测量了样品在室温下可见光区的光学常数,并求其介电函数的三级微商谱.用三点比例内插法分析介电函数的三级微商谱,精确地得到样品的带隙Eg、Eg+Δ0以及 Eg以上成对结构跃迁的能量位置,并对其结果加以分析.同时与沟道分析等方法相结合对材料的性能进行了鉴定.

关 键 词:AlGaInP 光学性质 砷化镓 光学性质 MOCVD
修稿时间:1999-04-22

Study on Optical Properties of AlxGa0.51-xIn0.49P
LIAN Jie,ZHANG Shu-zhi,LU Fei,WEI Ai-jian,HUANG Bo-biao,CHUI De-liang,QIN Xiao-yan,WANG Hai-tao. Study on Optical Properties of AlxGa0.51-xIn0.49P[J]. Semiconductor Optoelectronics, 2000, 21(2): 111-114
Authors:LIAN Jie  ZHANG Shu-zhi  LU Fei  WEI Ai-jian  HUANG Bo-biao  CHUI De-liang  QIN Xiao-yan  WANG Hai-tao
Abstract:
Keywords:
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