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多孔硅的有效场致发射
引用本文:孙建刚.多孔硅的有效场致发射[J].半导体技术,2006,31(4):300-302,309.
作者姓名:孙建刚
作者单位:山东大学物理与微电子学院,济南,250061
基金项目:中国科学院资助项目 , 教育部科学技术研究项目
摘    要:基于氢离子注入技术和典型电化学阳极浸蚀法制备了多孔硅有图(PS)薄膜.该薄膜的表面形态和特征采用扫描电子显微技术(SEM),X射线衍射(XRD)以及原子力显微技术(AFM)描述.采用大约3.5V/μm的低通场在电流强度为0.1 μA/cm2处获得有效场致发射.在约12.5V/μm的叠加场下,PS薄膜的发射电流密度达到1mA/cm2.实验结果表明PS薄膜对平板显示仪器具有巨大的应用潜能.

关 键 词:多孔硅  电子场发射  多孔硅薄膜
文章编号:1003-353X(2006)04-0300-03
收稿时间:2005-08-12
修稿时间:2005-08-12

Efficient Field Emission from Porous Silicon
SUN Jian-gang.Efficient Field Emission from Porous Silicon[J].Semiconductor Technology,2006,31(4):300-302,309.
Authors:SUN Jian-gang
Affiliation:School of Physics and Micro Electron of Shandong University, Jinan 250061, China
Abstract:
Keywords:porous silicont electron field emission  PS films
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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