| 光和传统热固化对SiO2减反膜影响的对比 |
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| 引用本文： | 靳瑞敏,蔡志端,苍利民,阎韬,徐建军,栗书增.光和传统热固化对SiO2减反膜影响的对比[J].材料科学与工程学报,2013,31(3):461-463. |
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| 作者姓名： | 靳瑞敏 蔡志端 苍利民 阎韬 徐建军 栗书增 |
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| 作者单位： | 1. 南阳理工学院太阳能电池研究所,河南南阳 473004;安彩高科股份有限公司博士后工作站,河南安阳 455000;郑州大学物理工程学院,河南郑州 450052
2. 安彩高科股份有限公司博士后工作站,河南安阳,455000 |
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| 基金项目： | 国家高技术产业计划项目资助项目，河南省基础与前沿基础研究资助项目 |
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| 摘 要： | 以正硅酸乙酯(TEOS)为有机硅源,采用溶胶-凝胶技术,通过调节添加剂控制溶胶溶液性能,然后分别用光固化和传统电阻炉固化两种不同的热处理方案,制备出低折射率SiO2光学减反薄膜。分别采用椭偏仪、扫描电镜等对所制备薄膜的结构、物性进行研究。研究结果表明:光固化比传统电阻炉固化减反膜折射率低。
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| 关 键 词： | 溶胶-凝胶SiO2薄膜 光固化 传统电阻炉固化 表面结构 折射率 |
Effect Comparison between Light and Furnace Heat Treatment on Anti-reflective SiO2 Thin Film |
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| Affiliation: | JIN Rui-min 1,2,3,CAI Zhi-duan 1,CANG Li-min 2,YAN Tao 2,XU Jian-jun 2,LI Shu-zheng 2(1.Nanyang Institute of Technology,Institute of Solar Cell,Nanyang 473000,China;2.Postdoctoral workstation Ancai Hi-Tech Co.,Ltd.,Anyang 455000,China;3.School of Physics,Zhengzhou University,Zhengzhou 450052,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Sol-gel process silica film light treatment furnace treatment surface structure refractive index |
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