| 含氯低pH值溶液中BDT自组装膜对铜电极的缓蚀行为 |
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| 引用本文： | 黄文章,童耀斌,罗红群,李念兵,李丹.含氯低pH值溶液中BDT自组装膜对铜电极的缓蚀行为[J].中国有色金属学报,2009,19(9). |
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| 作者姓名： | 黄文章 童耀斌 罗红群 李念兵 李丹 |
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| 作者单位： | 1. 重庆科技学院,化学化工学院,重庆,401331
2. 西南大学,化学化工学院,重庆,400715 |
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| 基金项目： | 重庆市自然科学基金资助项目 |
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| 摘 要： | 采用分子自组装技术,在铜电极表面形成一层1, 3-二巯基硫醇(BDT)单分子自组装膜.通过交流阻抗、极化曲线和循环伏安等电化学方法探讨该自组装膜在3%NaCl溶液中对铜电极的缓蚀作用.实验表明:BDT能够有效地组装到铜的表面形成单分子自组装膜,BDT自组装膜能有效地抑制铜基底在3%NaCl腐蚀介质以及酸性NaCl溶液中的腐蚀行为;缓蚀效率随组装时间的延长逐渐升高并趋于稳定,在pH值较低的溶液中仍具有较好的缓蚀效果;当BDT浓度为1.0×10-2 mol/L、组装时间为40 h时,铜电极的腐蚀电流最小,缓蚀效率最好.
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| 关 键 词： | 1 3-二巯基硫醇 自组装膜 铜电极 缓蚀 |
Corrosion inhibition behavior of copper electrode by self-assembled monolayer of BDT in solution with chlorine and low pH value |
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| HUANG Wen-zhang,TONG Yao-bin,LUO Hong-qun,LI Nian-bing,LI Dan.Corrosion inhibition behavior of copper electrode by self-assembled monolayer of BDT in solution with chlorine and low pH value[J].The Chinese Journal of Nonferrous Metals,2009,19(9). |
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| Authors: | HUANG Wen-zhang TONG Yao-bin LUO Hong-qun LI Nian-bing LI Dan |
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