| 全方位离子注入及增强沉积工业机和应用 |
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| 引用本文： | 童洪辉,陈庆川,霍岩峰,王珂,穆莉兰,冯铁民,赵军,严兵,耿漫.全方位离子注入及增强沉积工业机和应用[J].核技术,2002,25(9):684-689. |
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| 作者姓名： | 童洪辉 陈庆川 霍岩峰 王珂 穆莉兰 冯铁民 赵军 严兵 耿漫 |
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| 作者单位： | 核工业西南物理研究院,成都,610041 |
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| 摘 要： | 报道了等离子体源离子注入 (PSII)或等离子体浸没离子注入 (PIII)及增强沉积工业机的实验结果及应用。该机真空室直径 90 0mm ,高 10 5 0mm ,立式放置 ,抽气系统由分子泵及机械泵构成并且实现了PLC控制 ,本底真空小于 4× 10 - 4Pa。等离子体由热阴极放电或三个高效磁过滤式金属等离子体源产生 ,因此可实现全方位离子注入或增强沉积成膜。该机的负高压脉冲最高幅值为 80kV ,最大脉冲电流为 6 0A ,重复频率为 5 0— 5 0 0Hz ,脉冲上升沿小于 2 μs,并且可根据需要产生脉冲串。其等离子体密度约为 10 8— 10 10 ·cm- 3,膜沉积速率为 0 .1— 0 .5nm/s。
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| 关 键 词： | 增强沉积工业机 全方位离子注入 金属等离子体源 表面改性 金属材料 |
| 修稿时间： | 2002年7月4日 |
Industrial plasma immersion ion implanter and its applications |
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| TONG Honghui CHEN Qinchuan HUO Yanfeng WANG Ke MU Lilan,FENG Tiemin ZHAO Jun YAN Bing GENG Man.Industrial plasma immersion ion implanter and its applications[J].Nuclear Techniques,2002,25(9):684-689. |
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| Authors: | TONG Honghui CHEN Qinchuan HUO Yanfeng WANG Ke MU Lilan FENG Tiemin ZHAO Jun YAN Bing GENG Man |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Plasma immersion ion implantation Enhanced film deposition Metal plasma source Surface modification of material |
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