| 电容触摸屏ITO消影膜的设计与制备 |
| |
| 引用本文： | 黄翀,李成,杨玮枫,欧阳艳东,吴永俊. 电容触摸屏ITO消影膜的设计与制备[J]. 光电子技术, 2014, 34(4) |
| |
| 作者姓名： | 黄翀 李成 杨玮枫 欧阳艳东 吴永俊 |
| |
| 作者单位： | 1. 汕头大学理学院,广东汕头,515063
2. 汕头超声显示器有限公司,广东汕头,515041 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金项目，广东省“扬帆计划”引进紧缺拔尖人才项目 |
| |
| 摘 要： | 设计光学薄膜改善ITO图案,匹配出各个膜层合适的物理厚度,采用直流磁控溅射和双靶中频反应磁控溅射制备ITO消影膜。经过对样品的测试和实际效果对比,证明了所设计的ITO消影膜不仅能有效改善ITO图案明显的问题,在可见光范围内还可以使透过率变均匀,提高显示效果。
|
| 关 键 词： | ITO玻璃 反射率 消影膜 NbO|SiO光学薄膜 |
Design and Fabrication of Invisible ITO Film in Capacitive Touch Screen |
| |
| HUANG Chong,LI Cheng,YANG Weifeng,OUYANG Yandong,WU Yongjun. Design and Fabrication of Invisible ITO Film in Capacitive Touch Screen[J]. Optoelectronic Technology, 2014, 34(4) |
| |
| Authors: | HUANG Chong LI Cheng YANG Weifeng OUYANG Yandong WU Yongjun |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | ITO glass reflectance invisible film Nb2O5|SiO2 optical thin film |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
