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影响碲膜光学性能的因素
引用本文:马玉天,龚竹青,武俊,李宏煦,阳征会.影响碲膜光学性能的因素[J].稀有金属,2006,30(3):333-338.
作者姓名:马玉天  龚竹青  武俊  李宏煦  阳征会
作者单位:1. 中南大学冶金科学与工程学院,湖南,长沙,410083;金川集团有限公司,甘肃,金昌,737100
2. 中南大学冶金科学与工程学院,湖南,长沙,410083
3. 金川集团有限公司,甘肃,金昌,737100
4. 北京科技大学冶金生态学院,北京,100083
摘    要:用XRD,SEM,FTIR光谱仪、UV/VIS/NIR光谱仪表征了由化学气相沉积制备的碲薄膜的结构和光学性能,结果表明碲膜的光学性能受膜的厚度、基体表面性质和膜的表面形貌的影响。沉积在裸聚乙烯箔基体上的碲膜(膜厚293nm)不仅在8-13μm光谱范围的透过率比沉积在Mn-0覆盖聚乙烯箔基体上的碲膜(膜厚216nm)的透过率高,而且还能有效地阻挡太阳光的透过,这些性能说明具有该厚度的碲膜可以应用于太阳光辐射屏与辐射制冷设备。

关 键 词:化学气相沉积  碲薄膜  光学性能
文章编号:0258-7076(2006)03-0333-06
收稿时间:2005-07-25
修稿时间:2005-07-252005-11-10

Factors Influencing Optical Properties of Tellurium Film
Ma Yutian,Gong Zhuqing,Wu Jun,Li Hongxu,Yang Zhenghui.Factors Influencing Optical Properties of Tellurium Film[J].Chinese Journal of Rare Metals,2006,30(3):333-338.
Authors:Ma Yutian  Gong Zhuqing  Wu Jun  Li Hongxu  Yang Zhenghui
Affiliation:1. School of Metallurgical Science and Engineering, Central South University, Changsha 410083, China; 2. Jinchuan Group LTD. , Jinchang 737100, China; 3. School of Metallurgical and Ecological, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China
Abstract:
Keywords:chemical vapor deposition  tellurium thin films  optical properties
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