| 工艺参数对AgInSbTe薄膜性能的影响 |
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| 引用本文： | 李进延,侯立松,干福熹. 工艺参数对AgInSbTe薄膜性能的影响[J]. 材料研究学报, 2001, 15(5): 553-558 |
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| 作者姓名： | 李进延 侯立松 干福熹 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海市,201800
2. 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金重点项目 59832060． |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射工艺，在 Ｋｇ玻璃基片上用 Ａｇ－Ｉｎ－Ｓｂ－Ｔｅ合金靶制备了 Ａｇ_δＩｎ＿（１４）Ｓｂ＿（５５）Ｔｅ＿（２３） 相变薄膜，将沉积态薄膜在３００℃进行了热处理．测量了薄膜的光学性质和静态存储性能，研究了 溅射气压和功率对薄膜光学性质和静态存储性能的影响．结果表明，适当的溅射气压和溅射功率可使 Ａｇ_δＩｎ＿（１４）Ｓｂ＿（５５）Ｔｅ＿（２３）相变薄膜具有较大的反射率对比度，从而提高其存储性能．
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| 关 键 词： | 射频磁控溅射 Ag_8In_(14)Sb_(55)Te_(23)相变薄膜 反射率对比度 |
| 文章编号： | 1005-3093(2001)05-0553-06 |
| 修稿时间： | 2000-07-24 |
EFFECTS OF SPUTTERING TECHNICAL PARAMETERS ON THE OPTICAL PROPERTIES OF Ag-In-Sb-Te PHASE-CHANGE FILMS |
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| LI Jinyan,HOU Lisong,GAN Fuxi. EFFECTS OF SPUTTERING TECHNICAL PARAMETERS ON THE OPTICAL PROPERTIES OF Ag-In-Sb-Te PHASE-CHANGE FILMS[J]. Chinese Journal of Materials Research, 2001, 15(5): 553-558 |
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| Authors: | LI Jinyan HOU Lisong GAN Fuxi |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | RF magnetron sputtering AgInSbTe phase-change films reflectivity contrast |
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