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| 突飞猛进的光化蚀刻工艺 | |
| 引用本文： | 李春甫.突飞猛进的光化蚀刻工艺[J].丝网印刷,2002(6):10-14. |
| 作者姓名： | 李春甫 |
| 作者单位： | 北京力拓达科技公司,100011 |
| 摘 要： | 介绍了光化蚀刻的由来和传统工艺流程中五种掩膜的制作方法及四种现代的光化蚀刻法流程及其应用范围。指出随着电子技术的不断发展,光化蚀刻这门技术已经拓展到了许多新的领域,形成了一定的生产规模,并且带动了相关企业的发展。 |
| 关 键 词： | 光化蚀刻 网版印刷 制版 |
| 修稿时间： | 2002年8月15日 |
Photochemical Etching Process |
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| Abstract: | |
| Keywords: | |
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