| 电子束蒸发制备HfO2薄膜的性能研究 |
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| 引用本文： | 张红鹰,吴师岗,杜健. 电子束蒸发制备HfO2薄膜的性能研究[J]. 硅酸盐通报, 2014, 33(5): 1256-1258 |
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| 作者姓名： | 张红鹰 吴师岗 杜健 |
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| 作者单位： | 山东理工大学化学工程学院,淄博,255049;滨州市公路管理局,滨州,256600 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助(11104166) |
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| 摘 要： | 用电子束蒸发方法沉积HfO2薄膜,用X射线衍射和透射光谱测定HfO2薄膜的结构特征和光学性能,并测定薄膜的弱吸收和损伤阈值.结果表明:HfO2薄膜在沉积温度为350℃时,达到了较好的结晶程度.在可见光和近红外光区具有很高的透过率;HfO2薄膜的损伤阈值比较高,达到10.5 J/cm2.
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| 关 键 词： | HfO2薄膜 X射线衍射 透射光谱 薄膜结构 光学性能, |
Study on Performance of HfO2 Thin Film Prepared by the Electron Beam Evaporation Method |
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| ZHANG Hong-ying,WU Shi-gang,DU Jian. Study on Performance of HfO2 Thin Film Prepared by the Electron Beam Evaporation Method[J]. Bulletin of the Chinese Ceramic Society, 2014, 33(5): 1256-1258 |
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| Authors: | ZHANG Hong-ying WU Shi-gang DU Jian |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | HfO2 thin film X-ray diffraction transmission spectra film structure optical property, |
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