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铝硅合金上化学沉积Ni-Cu-P合金镀层的工艺及性能研究
引用本文:刘英策,朱有兰,张拥乱. 铝硅合金上化学沉积Ni-Cu-P合金镀层的工艺及性能研究[J]. 电镀与涂饰, 2005, 24(7): 21-24
作者姓名:刘英策  朱有兰  张拥乱
作者单位:广东工业大学材料与能源学院,广州,510643;广东工业大学材料与能源学院,广州,510643;广东工业大学材料与能源学院,广州,510643
摘    要:研究了铝-硅合金表面化学沉积Ni-Cu-P的工艺条件,探讨了镀液组成对镀速的影响,确定了最佳工艺条件为:p(硫酸镍)为30~40g/L,p(硫酸铜)为0.6~0.8g/L,p(次磷酸钠)为25~30g/L,p(柠檬酸钠)为40~50g/L,p(醋酸铵)为30~35g/L,温度为80℃,pH值为6.0。通过扫描电镜、X-射线衍射法探讨了合金镀层的形貌与结构。测定了镀层硬度和阳极极化曲线,结果表明:以该配方所得的镀层表面平整、光亮;未经热处理的镀层呈非晶态结构,随着热处理温度的升高,镀层的显微硬度先增后降,当温度达到400℃时,镀层结构晶体化,其显微硬度达到最大,为1050HV;镀层在3种介质中的耐蚀性顺序为:硫酸(体积分数为10%)>氯化钠(质量分数为10%)>氢氧化钠(质量分数为10%)。

关 键 词:化学沉积  铝硅合金  Ni-Cu-P
文章编号:1004-227X(2005)07-0021-04

Study on the process and properties of electroless Ni-Cu-P alloy on aluminum -silicon alloy
LIU Ying-ce,ZHU You-lan,ZHANG Yong-luan. Study on the process and properties of electroless Ni-Cu-P alloy on aluminum -silicon alloy[J]. Electroplating & Finishing, 2005, 24(7): 21-24
Authors:LIU Ying-ce  ZHU You-lan  ZHANG Yong-luan
Abstract:
Keywords:Ni-Cu-P
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