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| 消除X射线底片上伪缺陷水迹的新方法 | |
| 引用本文： | 李同超.消除X射线底片上伪缺陷水迹的新方法[J].无损检测,1997,19(3):74-74. |
| 作者姓名： | 李同超 |
| 作者单位： | 利民机械工业公司!453002 |
| 摘 要： | 过去在X射线底片水洗后晾片过程中出现很多流线型水迹和梅花型水迹。曾用过多种方法和脱水剂,都没有从根本上解决问题。在这种情况下,我们自己设计制造了一种手摇胶磙碾轧机,用这种碾轧机可使水迹伪缺陷数几乎降低为零。方法是将水洗后的底片七至八张摆放成梯形,然后从一端输入胶磙机碾轧,底片上的残留水被完全挤压出顺下端 |
| 关 键 词： | 射线照相 X射线 底片 水迹 |
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