采用光致发光法和卢瑟福背散射法测定Alx Ga1－x N薄膜中的Al元素含量及斯托克斯移动研究

采用深紫外光致发光技术测量AlxGa1－xN半导体薄膜的禁带宽度，结合软件模拟计算AlxGa1－xN薄膜的弯曲因子b，测定了Alx Ga1－x N薄膜中的Al元素含量，同时采用卢瑟福背散射技术测定Alx Ga1－x N薄膜中的Al元素含量。结果显示，Alx Ga1－x N薄膜的激发光谱和吸收光谱测得的禁带宽度一致，说明Alx Ga1－x N薄膜中不存在斯托克斯移动，由Material Studio软件计算得到弯曲因子b为1.01eV，符合理论值；在卢瑟福背散射测量中，模拟谱和随机谱重合较好，能够准确测得Al元素含量。两种方法测定的Alx Ga1－x N外延膜样品中的Al组分含量基本一致，光致发光法结果比背散射法结果稍大，而且Al含量越小，测量结果越吻合。