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用于圆筒状零件内表面等离子体浸没离子注入的偏转电场法
引用本文:刘爱国,朱剑豪.用于圆筒状零件内表面等离子体浸没离子注入的偏转电场法[J].材料科学与工艺,1998,6(4):59-63.
作者姓名:刘爱国  朱剑豪
作者单位:[1]哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室 [2]香港城市大学物理及材料科学系
摘    要:等离子体浸没离子注入(PIII)为解决束线离了注入所难以解决的圆筒状零件内表面注入处理问题提供了新要可能途径,但在应用中却受到注入能量和注入剂量偏代的限制,本文针对这一问题了偏转电场法用以提高内表面注入的能量和注入剂量,实验结果表明,采用这一方法可以有效地改善圆筒状零件内表面注入的注入情况,注论述工提高了25%~100%,注入剂量提高了73%~113%,注入脉冲宽度的延有利于注入离子向部深入,利于

关 键 词:等离子体浸没  离子注入  内表面改性  偏转电场

Deflecting Electric Field Method for Inner Surface Plasma Immersion Ion Implantation of a Bore
Liu Aiguo, Wang Xiaofeng, Tang Baoyin, Zeng Zhaoming ,Tian Xiubuo.Deflecting Electric Field Method for Inner Surface Plasma Immersion Ion Implantation of a Bore[J].Materials Science and Technology,1998,6(4):59-63.
Authors:Liu Aiguo  Wang Xiaofeng  Tang Baoyin  Zeng Zhaoming  Tian Xiubuo
Abstract:
Keywords:plasma immersion ion implantation  inner surface modification  deflecting electric field
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