| 单晶硅掺杂类型对化学镀Ni -P膜的影响 |
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| 引用本文： | 麻华丽,张新月,杜银霄,陈雷明,茹意,张锐,曾凡光,刘波,刘凯,梁浩. 单晶硅掺杂类型对化学镀Ni -P膜的影响[J]. 功能材料与器件学报, 2011, 17(6): 564-568 |
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| 作者姓名： | 麻华丽 张新月 杜银霄 陈雷明 茹意 张锐 曾凡光 刘波 刘凯 梁浩 |
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| 作者单位： | 1. 郑州航空工业管理学院数理系,河南郑州,450015
2. 河南大学物理与电子学院,河南开封,475004 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金项目，航空科学基金项目，河南省基础与前沿技术研究计划项目，河南省教育厅自然科学基金项目 |
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| 摘 要： | 本文采用化学镀的方法分别在P型、N型Si(100)表面制备了Ni -P膜,通过扫描电镜(SEM)及电子能谱仪(EDS)分析考察了同种制备条件下,在不同基底上镀膜的表面形貌和不同基底对镀层组分的影响；并用原子力显微镜(AFM)对不同基底上镀膜的平整度进行了研究.结果发现两种基底上的镀膜形貌、元素含量及镀膜平整度明显不同,...
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| 关 键 词： | 化学镀 N型Si P型Si Ni -P膜 |
Influence of dopant type in single crystal Si on the electroless plated Ni - P films |
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| MA Hua-li,ZHANG Xin-yue,DU Yin-xiao,CHEN Lei-ming,RU Yi,ZHANG Rui,ZENG Fan-guang,LIU Bo,LIU Kai,LIANG Hao. Influence of dopant type in single crystal Si on the electroless plated Ni - P films[J]. Journal of Functional Materials and Devices, 2011, 17(6): 564-568 |
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| Authors: | MA Hua-li ZHANG Xin-yue DU Yin-xiao CHEN Lei-ming RU Yi ZHANG Rui ZENG Fan-guang LIU Bo LIU Kai LIANG Hao |
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