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准分子激光用于光刻设备
引用本文:
吴秦杰.准分子激光用于光刻设备[J].激光与光电子学进展,1986,23(11):45.
作者姓名:
吴秦杰
作者单位:
吴秦杰
:
摘 要:
罗瑟福·阿普耳顿实验室的R. A.劳斯在去年10月1日到3日于英国伯明翰召开的85年国际半导体会议的一份报告中说:光刻设备利用准分子激光,可望提供X射线光刻的大部分优势,而避免其许多缺点。
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