| 平面分离双栅金属氧化物半导体场效应晶体管的设计与制作 |
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| 引用本文： | 肖德元,陈国庆,李若加,卢普生,陈良成,刘永,沈其昌.平面分离双栅金属氧化物半导体场效应晶体管的设计与制作[J].半导体学报,2007,28(6). |
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| 作者姓名： | 肖德元 陈国庆 李若加 卢普生 陈良成 刘永 沈其昌 |
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| 作者单位： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司技术发展中心,上海,201203 |
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| 摘 要： | 提出并制作了一种全新的平面分离双栅金属氧化物半导体场效应晶体管,该器件垂直于沟道方向的电场为一非均匀场.理论计算、TCAD三维器件仿真以及实验结果均表明,通过改变该器件中任何一个栅极偏置电压,能够得到可以调节的输出特性(增益系数)及转移特性曲线,可以很方便地调节器件的阈值电压及亚阈值摆幅并具备低功耗特点.这为电路的设计及器件制作提供了更多的灵活性,既可以简化电路的设计又可以降低MOS集成电路制造工艺的复杂程度.平面分离双栅金属氧化物半导体场效应晶体管制作工艺与目前常规的CMOS工艺完全兼容.
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| 关 键 词： | 新颖器件 场效应晶体管 平面分离双栅 亚阈值摆幅可调 |
Planar Split Dual Gate MOSFET: Fabrication, Design, and Layout |
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| Xiao Deyuan,Chen Guoqing,Li Ruojia,Lu Pusheng,Chen Liangcheng,Liu Yong,Shen Qichang.Planar Split Dual Gate MOSFET: Fabrication, Design, and Layout[J].Chinese Journal of Semiconductors,2007,28(6). |
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| Authors: | Xiao Deyuan Chen Guoqing Li Ruojia Lu Pusheng Chen Liangcheng Liu Yong Shen Qichang |
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