超精密软X射线光学系统的开发和应用

极紫外线缩小光刻它在原理方面与紫外线缩小曝光一样,在软X射线领域用高反射率的多层膜代替透镜,掩模用4～5倍的缩小刻线掩模,因为使用了厚Si基片形成多层膜,因此用同步辐射(SR)光源可以忽略热应力等影响,而且确保高精度图形,在缩小光学系统中探讨由2～4片非球面构成的光学系统。在NA0.1光学系统中曝光波长13nm,分辨率0.025μm。这时的景深分别为1.2μm,0.4μm,实际上正入射波长5nm,反射率为3％以下,难以形成高效率的光学系统,如果用正入射可以达到40％以上的反射率,曝光波长以8nm作为下限,则利用NA0.2光学系统能达到0.02μm的分辨率。