| 薄膜厚度对YBCO超导薄膜微结构及临界电流密度的影响 |
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| 引用本文： | 邹春梅,左长明,路胜博,催旭梅,姬洪. 薄膜厚度对YBCO超导薄膜微结构及临界电流密度的影响[J]. 功能材料与器件学报, 2007, 13(4): 301-305 |
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| 作者姓名： | 邹春梅 左长明 路胜博 催旭梅 姬洪 |
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| 作者单位： | 电子科技大学,微电子与固体电子学院,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054 |
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| 基金项目： | 感谢国家重点实验室在仪器使用和实验经费的支持,感谢在实验进行当中给予帮助的老师和同学. |
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| 摘 要： | 用MOD方法在LAO基片上沉积不同厚度的YBCO薄膜.用X射线衍射仪对这一系列样品进行表征分析,研究随着薄膜厚度的增加微结构的变化及临界电流密度的变化.X射线衍射分析发现YBCO薄膜取向度随薄膜厚度的增加,在800nm时取得最佳值之后又随厚度增加由强变弱.晶格常数c随着膜厚的增加而增大.本研究对这一系列样品进行了φ扫描分析和摇摆曲线半高宽的计算,并对800nm的YBCO薄膜做了倒易空间图谱分析,实验结果发现800nm的YBCO薄膜晶化比较好.本研究还分析了薄膜厚度对YBCO薄膜临界电流密度的影响.
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| 关 键 词： | YBCO薄膜 微结构 晶格常数C φ扫描 倒易空间 临界电流密度 摇摆曲线 |
| 文章编号： | 1007-4252（2007）04-0301-05 |
| 修稿时间： | 2006-06-19 |
Effect of the thickness of YBCO film on microstructure and critical current density |
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| ZOU Chun-mei,ZUO Chang-ming,LU Sheng-bo,CUI Xu-mei,JI Hong. Effect of the thickness of YBCO film on microstructure and critical current density[J]. Journal of Functional Materials and Devices, 2007, 13(4): 301-305 |
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| Authors: | ZOU Chun-mei ZUO Chang-ming LU Sheng-bo CUI Xu-mei JI Hong |
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| Affiliation: | University of Electronic Science and Technology of China, Key Laboratory of Electronic Thin Films and ntegrated Devices of China, Chengdu 610054, China |
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