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| 碳氮纳米管薄膜及其场致电子发射特性 | |
| 引用本文： | 张兰,马会中,姚宁,杨仕娥,边超,胡欢陵,张兵临.碳氮纳米管薄膜及其场致电子发射特性[J].光电子．激光,2003,14(8):779-782. |
| 作者姓名： | 张兰 马会中 姚宁 杨仕娥 边超 胡欢陵 张兵临 |
| 作者单位： | 1. 郑州大学工程力学系,郑州,450002;中国科学院安徽光学精密机械研究所,合肥,230031 2. 郑州大学工程力学系,郑州,450002 3. 郑州大学物理工程学院,郑州,450052 4. 中国科学院安徽光学精密机械研究所,合肥,230031 |
| 基金项目： | 国家"863"计划(715 002 0042),国家自然科学基金(60278035),河南省自然科学基金(004042000)资助项目 |
| 摘 要： | 利用微波等离子体增强化学气相沉积技术,在玻璃衬底上600℃～650℃的低温下制备出了碳氮纳米管薄膜,氮含量为12％,采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子谱(XPS)和Raman光谱等测试手段对所制备薄膜的表面形貌、微结构和成分进行了分析,并研究了其场致电子发射特性,阈值电场为3．7V／μm。当电场为8V／μm时,电流密度为413．3μA／cm^2,实验表明该薄膜具有优异的场发射性能,而且用这种方法制备的薄膜将大大简化平板显示器件的制作工艺。 |
| 关 键 词： | 碳氮纳米管 场致电子发射 微波等离子体增强化学气相沉积 表面形貌 微结构 阈值电场 |
| 文章编号： | 1005-0086(2003)08-0779-04 |
| 修稿时间： | 2003年1月14日 |
Carbon Nitride Nanotube Thin Film and Its Field Emission Properties |
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| Abstract: | |
| Keywords: | microwave plasma enhanced chemical vapor deposition Carbon nitride nanotube Field electron emission |
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