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CMOS/SOD电路的高温工作特性
作者姓名:顾长志  金曾孙  孟强  邹广田  陆剑侠  苏秀娣  许仲德  姚达  王怀荣
作者单位:吉林大学超硬材料国家重点实验室
摘    要:采用具有高导热、高绝缘等优异物理性能的金刚石膜作为绝缘理层,利用金刚石膜上的薄层硅(SOD)技术,制作了54HCTO3CMOS/SOD结构的集成电路.对该电路高温下的工作特性进行了研究.结果表明SOD电路在350℃下仍具有正常的逻辑功能,其工作温度明显高于体硅电路。

关 键 词:金刚石膜 CMOS/SOD IC 高温工作特性
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