| 磁过滤等离子体沉积和注入技术 |
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| 引用本文： | 张荟星,李强,吴先映.磁过滤等离子体沉积和注入技术[J].核技术,2002,25(9):695-698. |
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| 作者姓名： | 张荟星 李强 吴先映 |
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| 作者单位： | 射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京师范大学低能核物理研究所,北京,100875 |
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| 摘 要： | 利用阴极真空弧放电技术能够产生高密度的金属等离子体。经过90度的磁过滤器，可以除去金属等离子体中的大颗粒微粒，从而为制备高质量的、致密的各种薄膜提供了一种全新的技术。利用该技术制备薄膜具有非常广泛的应用。本文介绍了阴极真空弧放电技术的应用，以及磁过滤等离子体沉积和注入装置及其应用。
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| 关 键 词： | 磁过滤器 等离子体沉积 阴极真空弧技术 等离子体注入 薄膜 金属等离子体 材料 表面改性 |
| 修稿时间： | 2002年7月4日 |
Magnetic filtered plasma deposition and implantation technique |
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| ZHANG Huixing,LI Qiang,WU Xianying.Magnetic filtered plasma deposition and implantation technique[J].Nuclear Techniques,2002,25(9):695-698. |
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| Authors: | ZHANG Huixing LI Qiang WU Xianying |
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| Abstract: | A high dense metal plasma can be produced by using cathodic vacuum arc discharge technique. The microparticles emitted from the cathode in the metal plasma can be removed when the metal plasma passes through the magnetic filter. It is a new technique for making high quality, fine and close thin films which have very widespread applications. In this paper we describe the applications of cathodic vacuum arc technique, and then a filtered plasma deposition and ion implantation system as well as its applications. |
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| Keywords: | Magnetic filter Plasma deposition Cathodic vacuum arc technique |
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