| ECR-RF双功率源等离子体化学气相沉积制备类金刚石薄膜的研究 |
| |
| 引用本文： | 桑利军,陈强.ECR-RF双功率源等离子体化学气相沉积制备类金刚石薄膜的研究[J].包装工程,2008,29(10). |
| |
| 作者姓名： | 桑利军 陈强 |
| |
| 作者单位： | 北京印刷学院印刷,包装材料与技术北京市重点实验室,北京,102600;北京印刷学院印刷,包装材料与技术北京市重点实验室,北京,102600 |
| |
| 摘 要： | 利用微波ECR加射频功率源等离子体化学气相沉积技术,以CH4为碳源气体,Ar气为稀释气体,在硅片(100)上制备了类金刚石薄膜.Raman光谱证实了薄膜的类金刚石特性;傅立叶变换红外光谱表明薄膜中存在明显的C-H键结构.采用AFM观察了表面形貌,均方根粗糙度大约为1.489nm,表明薄膜表面比较光滑.最后对其进行了摩擦性能测试,薄膜的平均摩擦系数为0.102.
|
| 关 键 词： | 微波ECR等离子体化学气相沉积 类金刚石薄膜 平均摩擦系数 |
Study of Diamond-like Carbon Films Prepared by ECR-RF Dual-Power Source Plasma Chemical Vapor Deposition |
| |
| SANG Li-jun,CHEN Qiang.Study of Diamond-like Carbon Films Prepared by ECR-RF Dual-Power Source Plasma Chemical Vapor Deposition[J].Packaging Engineering,2008,29(10). |
| |
| Authors: | SANG Li-jun CHEN Qiang |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
