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| 钴铬垂直磁化膜的显微形貌和磁畴结构 | |
| 引用本文： | 张小平,潘国宏,孙允希,王勤堂,雷晓钧,孙玉秀,田芳.钴铬垂直磁化膜的显微形貌和磁畴结构[J].电子显微学报,2000,19(4):461-462. |
| 作者姓名： | 张小平 潘国宏 孙允希 王勤堂 雷晓钧 孙玉秀 田芳 |
| 作者单位： | 1. 北京大学电镜室,北京,100871 2. 北京大学物理系,北京,100871 3. 北京大学化学系,北京,100871 4. 北京大学微电子所,北京,100871 5. 中科院化学研究所青年纳米科技实验室,北京,100080 |
| 摘 要： | 用电子束蒸镀和二极直流溅射方法分别制备了钴铬垂直磁化薄膜。1)用VSM及X射线薄膜磁化强度取向摆动曲线的Δθ50等方法做了磁性等测量,结果表明蒸镀和溅射两种方法都能制备出优质钴铬垂直磁化薄膜;2)对Co-Cr垂直磁化薄膜的成分分布及微观形貌用高分辨透射电镜作了晶粒形貌、选区衍射和纳米束斑的能谱分析等研究。其中成分分布结果表明晶界处钴的集聚偏多,而非国际上流行的铬偏多;3)用STM作了晶粒形貌及表面起伏曲线,用AFM、MFM(磁力显微镜)分别做了同一区域晶粒形貌和相应磁畴结构的比较,实验都获得了很好的结果。钴铬固溶体薄膜是典… |
| 关 键 词： | 钴铬垂直磁化膜 显微形貌 磁畴结构 |
The micro-morphology and magnetic domain structure of perpendicular magnetic Co-Cr film |
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